透射电镜(TEM)用氧化硅薄膜窗格
氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较:
相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,则会与样本造成混淆。
样本安置面:
对多数用户来说,样本应安置在薄膜窗格的“覆膜面”而非“蚀坑面”。但我们也知道在一些特殊情况下,蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜(AFM)观测外,蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上,没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内“看清”薄膜表面。
产品规格:
氧化硅薄膜窗特点:
清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量;
均匀性:减少了不同区域的不均匀性;
稳定性:耐高温,>1000℃;
良好的化学稳定性:图像分辨率和机械强度达到理想的平衡;
化学计量比的SiO2:可用于氮气环境下的EDX分析;
氧化硅薄膜窗规格
窗口类型 | 薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 框架厚度 |
| 20nm | 2x1阵列,100X1500μm | Φ3mm | 200μm |
40nm | 2x1阵列,100X1500μm | Φ3mm | 200μm |
| 20nm | 3x3阵列,窗口100X100μm | Φ3mm | 200μm |
100nm | 3x3阵列,窗口100X100μm | Φ3mm | 200μm |
| 8nm | 窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小70x70μm | Φ3mm | 200μm |
18nm | 窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小60x60μm | Φ3mm | 200μm |
40nm | 窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小50x50μm | Φ3mm | 200μm |
优点:
- SEM应用中,薄膜背景不呈现任何结构和特点。
- x-射线显微镜中,装载多个分析样的方法。
- 无氮
应用:
氧化硅薄膜应用范围非常广,甚至有时使不可能变为可能,但所有应用都有无氮要求(因样本中有氮存在):
惰性基片可用于高温环境下,通过TEM、SEM或AFM(某些情况下)对反应进行动态观察。
作为耐用(如“强力”)基片,首先在TEM下,然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。
作为耐用匹配基片,对AFM和TEM图像进行比较。
聚焦离子束(FIB)样本的装载,我们推荐使用多孔薄膜,而非不间断薄膜。
氧化硅薄膜TEM网格操作使用:
如果正确操作,氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反,若用工具直接接触薄膜,则会即刻损坏薄膜。为防损坏,可用尖嘴镊子小心夹取,就像夹取其他TEM网格一样。
使用前清洁:
氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离,并对外框进行打磨,因此这些微小碎片不可避免。尽管如此,我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。
如果用户确实需要对这些碎片进行清理,我们建议用H2SO4:H2O2(1:1)溶液清洁有机物,用H2O:HCl: H2O2(5:3:3)溶液清洁金属。
通常不能用超声波清洗器清洁薄膜,因超声波可能使其粉碎性破裂。
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